Anordnung zur Verwendung in der Halbleiter-Fotolithografie und Verfahren zu Ihrer Herstellung

EP3704546 Art A1 9. September 2020

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3704546
Aktenzeichen: EP18786247
Anmeldetag: 5. Oktober 2018
Veröffentlichung: 9. September 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B7/00G02B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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