Polysiloxan und Herstellungsverfahren dafür
EP3712199
Art B1
23. November 2022
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3712199
- Aktenzeichen
- EP18879893
- Anmeldetag
- 13. November 2018
- Veröffentlichung
- 23. November 2022
- Erteilung
- 23. November 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/20C08G77/06C08G77/12C08L83/05C08L83/07
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München