Photolack-Freie Strukturierungsmaske

EP3719576 Art A1 7. Oktober 2020

Anmelder: IMEC vzw, Katholieke Universiteit Leuven KU Leuven Research & Development 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3719576
Aktenzeichen: EP19167248
Anmeldetag: 4. April 2019
Veröffentlichung: 7. Oktober 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/09G03F7/16G03F7/38G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC vzw
Katholieke Universiteit Leuven KU Leuven Research & Development
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 KU Leuven Research & Development

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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