Metrologieverfahren und -Vorrichtung, Computerprogramm und Lithografisches System

EP3731020 Art A1 28. Oktober 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3731020
Aktenzeichen: EP19171061
Anmeldetag: 25. April 2019
Veröffentlichung: 28. Oktober 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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