Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung

EP3734366 Art A1 4. November 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3734366
Aktenzeichen: EP19172479
Anmeldetag: 3. Mai 2019
Veröffentlichung: 4. November 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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