Auf Rechnergestützter Metrologie Basiertes Abtastschema

EP3743771 Art A1 2. Dezember 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3743771
Aktenzeichen
EP18825647
Anmeldetag
17. Dezember 2018
Veröffentlichung
2. Dezember 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G01N21/956
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen