Interferometersystem, Verfahren zur Bestimmung eines Modussprungs einer Laserquelle eines Interferometersystems, Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Beweglichen Objekts und Lithografische Vorrichtung

EP3751229 Art A1 16. Dezember 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3751229
Aktenzeichen: EP19179357
Anmeldetag: 11. Juni 2019
Veröffentlichung: 16. Dezember 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G01B9/02G01J9/02G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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