Element zur Verwendung in einer Plasmabehandlungsvorrichtung und damit Ausgestattete Plasmabehandlungsvorrichtung

EP3754047 Art B1 31. Januar 2024

Anmelder: Kyocera Corporation, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3754047
Aktenzeichen: EP19754885
Anmeldetag: 15. Februar 2019
Veröffentlichung: 31. Januar 2024
Erteilung: 31. Januar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/08H01L21/3065H05H1/46C04B35/111C04B35/626C04B41/00H01J37/32C04B41/87C04B41/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kyocera Corporation
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyocera

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Kyoto. Kyocera fertigt Keramikbauteile, Halbleiterkomponenten, Solarmodule, Druck- und Kopiersysteme sowie Elektronikprodukte für Industrie und Endverbraucher.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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