Element zur Verwendung in einer Plasmabehandlungsvorrichtung und damit Ausgestattete Plasmabehandlungsvorrichtung

EP3754047 Art B1 31. Januar 2024

Anmelder: Kyocera Corporation, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3754047
Aktenzeichen: EP19754885
Anmeldetag: 15. Februar 2019
Veröffentlichung: 31. Januar 2024
Erteilung: 31. Januar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/08H01L21/3065H05H1/46C04B35/111C04B35/626C04B41/00H01J37/32C04B41/87C04B41/50

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Kyocera Corporation
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyocera

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Kyoto. Kyocera fertigt Keramikbauteile, Halbleiterkomponenten, Solarmodule, Druck- und Kopiersysteme sowie Elektronikprodukte für Industrie und Endverbraucher.

9.200 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

411 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von