Metrologieverfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Komplexwertigen Feldes

EP3754427 Art A1 23. Dezember 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3754427
Aktenzeichen: EP19180565
Anmeldetag: 17. Juni 2019
Veröffentlichung: 23. Dezember 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03H1/04G02B21/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von