Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma bei Atmosphärischem Druck, Schaltung zur Erzeugung von Plasma bei Atmosphärischem Druck und Verfahren zur Erzeugung von Plasma bei Atmosphärischem Druck
EP3755125
Art B1
18. Januar 2023
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3755125
- Aktenzeichen
- EP19753667
- Anmeldetag
- 10. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 18. Januar 2023
- Erteilung
- 18. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/46H01J37/32H03H7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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