Vorrichtung und Methode zur Beeinflussung der Lokalen Phase eines Geladenen Teilchenstrahls

EP3761340 Art A1 6. Januar 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3761340
Aktenzeichen: EP19183767
Anmeldetag: 2. Juli 2019
Veröffentlichung: 6. Januar 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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