Lithografische Vorrichtung mit Graphenpellikel

EP3762142 Art A1 13. Januar 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3762142
Aktenzeichen: EP19706407
Anmeldetag: 7. Februar 2019
Veröffentlichung: 13. Januar 2021
Rechtsraum: EP
IPC: B01J23/652B01J23/883B01J23/885B01J23/28B01J23/30B01J27/22B01J21/18B01J37/02B01J35/00G03F1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von