Positionierungssystem für eine Lithographische Vorrichtung

EP3762777 Art B1 8. November 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT GmbH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3762777
Aktenzeichen: EP19703749
Anmeldetag: 14. Februar 2019
Veröffentlichung: 8. November 2023
Erteilung: 8. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H02K41/03H02K41/035

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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