Abtaststrategien zur Minimierung von Ladungseffekten und Strahlungsschäden eines Systems zur Messung von Ladungsteilchenstrahlen
EP3762779
Art B1
4. Juni 2025
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3762779
- Aktenzeichen
- EP19764082
- Anmeldetag
- 5. März 2019
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2025
- Erteilung
- 4. Juni 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/66H01L21/67G01B15/04G06T7/00G01B15/00H01J37/28H01J37/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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