Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung bei Metrologieanwendungen
EP3767375
Art A1
20. Januar 2021
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3767375
- Aktenzeichen
- EP19187242
- Anmeldetag
- 19. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02F1/01G02F1/35
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven