Sputtertargetelement und Verfahren zur Herstellung davon
EP3778984
Art A1
17. Februar 2021
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3778984
- Aktenzeichen
- EP18911737
- Anmeldetag
- 15. November 2018
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22F1/00C22F1/06C22C23/00H01J37/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München