Verfahren zum Kennzeichnen von Substraten basierend auf Prozessparametern

EP3785077 Art B1 4. Mai 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3785077
Aktenzeichen: EP19708314
Anmeldetag: 4. März 2019
Veröffentlichung: 4. Mai 2022
Erteilung: 4. Mai 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G05B19/418

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

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