Optisches System zur Übertragung von Originalstrukturabschnitten einer Lithografiemaske, Optische Projektionseinheit zur Bildgebung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Originalstrukturabschnitt der Lithografiemaske Anzuordnen Ist, und Lithografiemaske

EP3791230 Art A1 17. März 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3791230
Aktenzeichen: EP19723063
Anmeldetag: 7. Mai 2019
Veröffentlichung: 17. März 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B13/08G03F1/24G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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