Strahlungsquelle

EP3796080 Art A1 24. März 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3796080
Aktenzeichen: EP19198105
Anmeldetag: 18. September 2019
Veröffentlichung: 24. März 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G02F1/35G02F1/365

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von