Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters

EP3809206 Art A1 21. April 2021

Anmelder: Osaka University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3809206
Aktenzeichen: EP19819098
Anmeldetag: 14. Juni 2019
Veröffentlichung: 21. April 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/38G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Osaka University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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