Systeme und Verfahren zur Profilierung von Ladungsteilchenstrahlen

EP3809443 Art A1 21. April 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3809443
Aktenzeichen: EP19203966
Anmeldetag: 18. Oktober 2019
Veröffentlichung: 21. April 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/04H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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