Verfahren zur Bestimmung von Aberrationen in von einem Ladungsteilchenstrahlgerät Erhaltenen Bildern, Verfahren zur Bestimmung einer Einstellung eines Ladungsteilchenstrahlgeräts, und Ladungsteilchenstrahlgerät
EP3813091
Art A1
28. April 2021
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3813091
- Aktenzeichen
- EP19204524
- Anmeldetag
- 22. Oktober 2019
- Veröffentlichung
- 28. April 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/153H01J37/22H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven