Einrichtung zum Halten eines Substrats und Vorrichtung zur Bearbeitung dessen
Anmelder: EBARA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3825061
- Aktenzeichen
- EP20208443
- Anmeldetag
- 18. November 2020
- Veröffentlichung
- 6. Oktober 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24B37/30
Abstract
Provided is a top ring that ensures uniformly pressing a substrate against a polishing pad. A top ring 302 for holding a substrate WF includes a base member 301 coupled to a top ring shaft 18, an elastic film 320 that is mounted to the base member 301 and forms a pressurization chamber 322 for pressurizing the substrate WF between the base member 301 and the elastic film 320, a substrate suction member 330 that includes a porous member 334 including a substrate suction surface 334a for suctioning the substrate WF and a pressure reducing portion 334b communicating with a pressure reducing unit 31. The substrate suction member 330 is held to the elastic film 320.
Anmelder
- Firma
- EBARA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
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Fachgebiete
Wagner & Geyer wurde 1972 von Karl H. Wagner in München gegründet und fusionierte 1983 mit Dr. Ulrich F. Geyer. Neben Patenten begleitet die Kanzlei Designs, Gebrauchsmuster und Marken im internationalen Partnernetzwerk und berät traditionell eng mit japanischen Mandanten auf Deutsch, Englisch und Japanisch.