Verfahren zur Bildung eines Films aus einem Oxid von In, Ga und Zn

EP3828303 Art A1 2. Juni 2021

Anmelder: Imec VZW, Applied Materials, Inc. 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3828303
Aktenzeichen: EP19212086
Anmeldetag: 28. November 2019
Veröffentlichung: 2. Juni 2021
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/08C23C14/34H01L27/12H01L29/04H01L29/786C23C14/35C23C14/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Imec VZW
Applied Materials, Inc.
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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