Reflektive Euv-Masken-Absorber-Manipulation zur Verbesserung des Wafer-Kontrasts

EP3850432 Art A1 21. Juli 2021

Anmelder: Synopsys, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3850432
Aktenzeichen: EP19861007
Anmeldetag: 13. September 2019
Veröffentlichung: 21. Juli 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/36G03F1/70G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Synopsys, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

483 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von