Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Wafern

EP3853887 Art A1 28. Juli 2021

Anmelder: Lam Research AG 🇦🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3853887
Aktenzeichen
EP19779383
Anmeldetag
16. September 2019
Veröffentlichung
28. Juli 2021
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/67H01L21/02F16K11/22B08B3/08B01F3/08B05B1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Lam Research AG
Land
🇦🇹 Österreich
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen