Deckel für Gehäuse eines Optischen Elements, Gehäuse eines Optischen Elements und Herstellungsverfahren für Deckel für Gehäuse eines Optischen Elements und für Gehäuse eines Optischen Elements
EP3855514
Art A1
28. Juli 2021
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3855514
- Aktenzeichen
- EP19863570
- Anmeldetag
- 2. September 2019
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/0232H01L31/0203H01L33/58H01L23/00// H01L33/48H01L33/60
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München