Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür

EP3859047 Art A1 4. August 2021

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3859047
Aktenzeichen: EP19864570
Anmeldetag: 20. September 2019
Veröffentlichung: 4. August 2021
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/34H01J37/34B23K10/02B23K15/00B23K15/04B23K26/24C22C14/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von