Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP3859048
Art A1
4. August 2021
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3859048
- Aktenzeichen
- EP19867644
- Anmeldetag
- 20. September 2019
- Veröffentlichung
- 4. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22F1/18H01J37/34B21J5/00B21J1/06B21J1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München