Substratverarbeitungsvorrichtung und Substratverarbeitungsverfahren

EP3872840 Art A1 1. September 2021

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3872840
Aktenzeichen: EP19877481
Anmeldetag: 3. September 2019
Veröffentlichung: 1. September 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304G01B11/00H01L21/67H01L21/68// H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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