Verfahren zur Verarbeitung eines Halbleiterwafers, Halbleiterwafer, Clip und Halbleiterbauelement
EP3886150
Art A1
29. September 2021
Anmelder: Infineon Technologies Austria AG 🇦🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3886150
- Aktenzeichen
- EP20165985
- Anmeldetag
- 26. März 2020
- Veröffentlichung
- 29. September 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/78H01L23/15H01L23/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies Austria AG
- Land
- 🇦🇹 Österreich
🇦🇹
Infineon Technologies Austria
Österreichische Konzerngesellschaft des deutschen Halbleiterherstellers Infineon mit Sitz in Villach. Entwickelt und fertigt Halbleiterbauelemente für Automobil-, Energie- und Industrieanwendungen.
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