Lithografische Vorrichtung mit Thermischem Konditionierungssystem zur Konditionierung eines Wafers

EP3899663 Art A1 27. Oktober 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3899663
Aktenzeichen: EP19809088
Anmeldetag: 28. November 2019
Veröffentlichung: 27. Oktober 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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