Verfahren und Struktur zur Dielektrischen Metallverbindung

EP3900028 Art B1 4. Dezember 2024

Anmelder: Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3900028
Aktenzeichen
EP20912645
Anmeldetag
7. Januar 2020
Veröffentlichung
4. Dezember 2024
Erteilung
4. Dezember 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/20H01L23/528H01L23/00H01L23/36// H01L23/373H01L27/146
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Yangtze Memory Technologies Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Yangtze Memory Technologies

Chinesisches Unternehmen aus Wuhan, das NAND-Flash-Speicherchips entwickelt und produziert.

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