Substrat mit Film für Reflektierenden Maskenrohling und Reflektierender Maskenrohling
EP3907560
Art A1
10. November 2021
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3907560
- Aktenzeichen
- EP21170665
- Anmeldetag
- 27. April 2021
- Veröffentlichung
- 10. November 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.656 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München