Unterschicht für die Haftung und Dosisreduzierung von Fotolack
EP3908882
Art A1
17. November 2021
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3908882
- Aktenzeichen
- EP21741104
- Anmeldetag
- 11. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 17. November 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/004G03F7/09C23C16/22H01J37/32H01L21/02H01L21/31H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München