Verfahren zur Modellierung von Systemen oder zur Durchführung von Prädiktiver Wartung von Systemen, Wie Etwa Lithografische Systeme, sowie Zugehörige Lithografische Systeme

EP3910419 Art A1 17. November 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3910419
Aktenzeichen: EP20174756
Anmeldetag: 14. Mai 2020
Veröffentlichung: 17. November 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G05B23/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von