Substrathalter zur Verwendung in einem Lithografischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP3915142 Art A1 1. Dezember 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3915142
Aktenzeichen: EP19817345
Anmeldetag: 13. Dezember 2019
Veröffentlichung: 1. Dezember 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/687G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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