Komponente zur Verwendung in einem Lithographischen Gerät, Verfahren zum Schützen einer Komponente und Verfahren zum Schützen von Tischen in einem Lithographischen Gerät

EP3921701 Art A1 15. Dezember 2021

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3921701
Aktenzeichen: EP20702000
Anmeldetag: 24. Januar 2020
Veröffentlichung: 15. Dezember 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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