Verfahren und Lithographievorrichtung zur Messung eines Strahlungsbündels
EP3924779
Art A1
22. Dezember 2021
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3924779
- Aktenzeichen
- EP20703185
- Anmeldetag
- 30. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 22. Dezember 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Pei, Fei
Veldhoven, Niederlande
2
Patente gesamt
2
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven