Reflektorherstellungsverfahren und Zugehöriger Reflektor

EP3931866 Art B1 1. Oktober 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3931866
Aktenzeichen: EP20702117
Anmeldetag: 28. Januar 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2025
Erteilung: 1. Oktober 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L23/00H01L25/065G03F7/00B29C65/48B32B17/06B32B38/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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