Replacement-Metal-Gate-Vorrichtungsstruktur und Verfahren zur Herstellung davon
EP3933933
Art A1
5. Januar 2022
Anmelder: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., TSMC Nanjing Company, Limited 🇹🇼
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3933933
- Aktenzeichen
- EP21183108
- Anmeldetag
- 1. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 5. Januar 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/66H01L29/49
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.
TSMC Nanjing Company, Limited - Land
- 🇹🇼 Taiwan
🇹🇼
Taiwan Semiconductor Manufacturing
Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC) ist der weltweit größte reine Halbleiter-Auftragsfertiger mit Sitz in Hsinchu, Taiwan. Der weit überwiegende Teil des Patentportfolios betrifft Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Nachrichtentechnik. Anmeldungen laufen durchgehend von 2000 bis 2022.
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