Systeme zur Elektronenstrahlfokussierung in der Generativen Fertigung von Elektronenstrahlen
EP3944916
Art A1
2. Februar 2022
Anmelder: General Electric Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3944916
- Aktenzeichen
- EP21182281
- Anmeldetag
- 29. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 2. Februar 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22F12/44B23K15/00H01J37/141H01J37/305B33Y30/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- General Electric Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
General Electric
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Massachusetts. Historisch aktiv in Energieerzeugung, Luftfahrttriebwerken, Medizintechnik und Industrietechnik über verschiedene Geschäftsbereiche.
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Vertreten von
-
Hafner & Kohl PartmbB
Hafner & Kohl PartmbB · Nürnberg