Leistungs-Mosfet mit Geteiltem Gate-Graben mit Selbstausgerichteter Poly-Zu-Poly-Isolation
EP3955311
Art A1
16. Februar 2022
Anmelder: STMicroelectronics Pte Ltd. 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3955311
- Aktenzeichen
- EP21189249
- Anmeldetag
- 3. August 2021
- Veröffentlichung
- 16. Februar 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/40H01L21/336H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics Pte Ltd.
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Cabinet Beaumont
Cabinet Beaumont · Grenoble