Verfahren zum Abscheiden einer Epitaktischen Schicht auf einer Substratscheibe

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP3957776

Aktenzeichen

EP20191322

Anmeldetag

17. August 2020

Veröffentlichung

18. Juni 2025

Erteilung

18. Juni 2025

Rechtsraum

EP

IPC

C30B25/12C23C16/458C30B25/18C30B29/06H01L21/66C23C16/52

Abstract

Verfahren zum Abscheiden einer epitaktischen Schicht auf einer Substratscheibe aus einer Gasphase, umfassend das Messen einer Randgeometrie der Substratscheibe, die einem Rand der Substratscheibe in Abhängigkeit von Randpositionen einen Dickenkennwert zuweist; das Ablegen der Substratscheibe in eine Tasche eines Suszeptors einer Vorrichtung zum Abscheiden der epitaktischen Schicht, wobei die Tasche von einer Begrenzung mit kreisförmigem Umfang umgeben ist; das Erhitzen der Substratscheibe; und das Leiten von Prozessgas über die Substratscheibe; gekennzeichnet durch das Ablegen der Substratscheibe in die Tasche derart, dass ein Abstand, den die Substratscheibe zur Begrenzung der Tasche hat, an Randpositionen mit dem Dickenkennwert eines dickeren Rands kleiner ist, als an Randpositionen mit dem Dickenkennwert eines dünneren Rands.

Anmelder

Firma

Siltronic AG

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete