Wellenfrontmetrologiesensor und Maske Dafür, Verfahren zur Optimierung einer Maske und Zugehörige Vorrichtungen

EP3964809 Art A1 9. März 2022

Anmelder: Stichting VU, ASML Netherlands B.V., Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten, Universiteit van Amsterdam 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3964809
Aktenzeichen: EP20194153
Anmeldetag: 2. September 2020
Veröffentlichung: 9. März 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G01J1/04G01J1/42G01J9/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Stichting VU
ASML Netherlands B.V.
Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten
Universiteit van Amsterdam
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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