Siliziumhaltiges Polymer, Filmbildende Zusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Siliziumhaltigen Polymerbeschichtung, Verfahren zur Herstellung einer Kieselsäurebeschichtung und Verfahren zur Herstellung eines Siliziumhaltigen Polymers
EP3971229
Art B1
3. Januar 2024
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3971229
- Aktenzeichen
- EP20806572
- Anmeldetag
- 13. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2024
- Erteilung
- 3. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/60C08G77/28C09D183/08C09D183/16C08G77/392
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
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Plasseraud IP
Plasseraud IP · Paris