Siliziumhaltiges Polymer, Filmbildende Zusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Siliziumhaltigen Polymerbeschichtung, Verfahren zur Herstellung einer Kieselsäurebeschichtung und Verfahren zur Herstellung eines Siliziumhaltigen Polymers

EP3971229 Art B1 3. Januar 2024

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3971229
Aktenzeichen
EP20806572
Anmeldetag
13. Mai 2020
Veröffentlichung
3. Januar 2024
Erteilung
3. Januar 2024
Rechtsraum
EP
IPC
C08G77/60C08G77/28C09D183/08C09D183/16C08G77/392
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen