Fotomaskenrohling, Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske und Fotomaske

EP3979001 Art B1 23. April 2025

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3979001
Aktenzeichen: EP20814579
Anmeldetag: 20. April 2020
Veröffentlichung: 23. April 2025
Erteilung: 23. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/32G03F1/58G03F1/82

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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