Interferometersystem, Verfahren zur Bestimmung eines Modussprungs einer Laserquelle eines Interferometersystems, Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Beweglichen Objekts und Lithografische Vorrichtung

EP3983750 Art A1 20. April 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3983750
Aktenzeichen
EP20724133
Anmeldetag
11. Mai 2020
Veröffentlichung
20. April 2022
Rechtsraum
EP
IPC
G01B9/02G01J9/02G03F7/20G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen