Substrathandhabungssystem einer Lithografievorrichtung und Verfahren dafür

EP3990985 Art B1 17. Januar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3990985
Aktenzeichen: EP20725579
Anmeldetag: 19. Mai 2020
Veröffentlichung: 17. Januar 2024
Erteilung: 17. Januar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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