Elektronenstrahllithographie mit Doppelschicht-Resist

EP3995895 Art A1 11. Mai 2022

Anmelder: The Boeing Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3995895
Aktenzeichen: EP21204563
Anmeldetag: 25. Oktober 2021
Veröffentlichung: 11. Mai 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/09G03F7/075G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Boeing Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Boeing

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrtkonzern mit Sitz in Virginia. Entwickelt und fertigt Verkehrsflugzeuge, Militärflugzeuge, Raumfahrtsysteme sowie Verteidigungs- und Sicherheitstechnik.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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